High Purity Chemical Filters

LiquiPro™ 

ฟิลเตอร์ของ PORVAIR FILTRATION GROUP  "LiquiPro™" ทั้ง LiquiPro™ filter และ Filter housing (กล่องฟิลเตอร์) ถูกออกแบบมาสำหรับกระบวนการในอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์ และ กระบวนการ อื่นๆดังต่อไปนี้

CMP (Chemical Mechanical Polishing ) เป็นกระบวนการขัดเงาบนพื้นผิวเวเฟอร์โดยใช้ทั้งคุณสมบัติทางกลและคุณสมบัติทางเคมีของสสาร LiquiPro™ SL filter  ถูกออกแบบมาด้วยวัสดุโพลีพรอพิลีน (Polypropylene) เป็นหลัก ตัวฟิลเตอร์สามารถใช้ได้กับสารละลาย/สารผสม (slurry) ที่หลากหลายได้แก่ aluminas, colloidal และ ceria

LiquiPro™ SL filter สามารถถูกติดตั้งได้ทั้งที่จุดใช้งาน (Point-Of-Use ,POU)  และ ที่ในระบบลำเลียง Bulk Slurry ( Bulk Slurry Delivery System ,BSDS)

LiquiPro™ BU filter เป็นฟิลเตอร์ที่ประกอบขึ้นด้วย PES membrane (Polyethersulfone membrane)

ฟิลเตอร์นี้ใช้ในกระบวนการ Post CMP Clean  ซึ่งกระบวนการดังกล่าวจะใช้สารเคมีพวก Dilute HF หรือ Ammonia Solution

"LiquiPro™ range" ยังถูกนำไปใช้ในกระบวนการอื่นๆอีกเช่น

 LiquiPro™ SL filter ใช้ในกระบวนการ PVD (Physical vapour deposition ) 

LiquiPro™ FG  filter ใช้ในกระบวนการ WEC (Wet Etch Clean) 

LiquiPro™ MI filter ถูกใช้ในกระบวนการ Photolitho

นอกจากนี้ยังมีฟิลเตอร์ และ ส่วนประกอบรุ่นอื่นๆใน range อีกได้แก่

LiquiPro™ PA

LiquiPro™ EZ

Patented PFA housing

YS Stainless Steel Housing

YP Housing

Etc.