ฟิลเตอร์ของ PORVAIR FILTRATION GROUP "LiquiPro™" ทั้ง LiquiPro™ filter และ Filter housing (กล่องฟิลเตอร์) ถูกออกแบบมาสำหรับกระบวนการในอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์ และ กระบวนการ อื่นๆดังต่อไปนี้
CMP (Chemical Mechanical Polishing ) เป็นกระบวนการขัดเงาบนพื้นผิวเวเฟอร์โดยใช้ทั้งคุณสมบัติทางกลและคุณสมบัติทางเคมีของสสาร LiquiPro™ SL filter ถูกออกแบบมาด้วยวัสดุโพลีพรอพิลีน (Polypropylene) เป็นหลัก ตัวฟิลเตอร์สามารถใช้ได้กับสารละลาย/สารผสม (slurry) ที่หลากหลายได้แก่ aluminas, colloidal และ ceria
LiquiPro™ SL filter สามารถถูกติดตั้งได้ทั้งที่จุดใช้งาน (Point-Of-Use ,POU) และ ที่ในระบบลำเลียง Bulk Slurry ( Bulk Slurry Delivery System ,BSDS)
LiquiPro™ BU filter เป็นฟิลเตอร์ที่ประกอบขึ้นด้วย PES membrane (Polyethersulfone membrane)
ฟิลเตอร์นี้ใช้ในกระบวนการ Post CMP Clean ซึ่งกระบวนการดังกล่าวจะใช้สารเคมีพวก Dilute HF หรือ Ammonia Solution
"LiquiPro™ range" ยังถูกนำไปใช้ในกระบวนการอื่นๆอีกเช่น
LiquiPro™ SL filter ใช้ในกระบวนการ PVD (Physical vapour deposition )
LiquiPro™ FG filter ใช้ในกระบวนการ WEC (Wet Etch Clean)
LiquiPro™ MI filter ถูกใช้ในกระบวนการ Photolitho
นอกจากนี้ยังมีฟิลเตอร์ และ ส่วนประกอบรุ่นอื่นๆใน range อีกได้แก่
LiquiPro™ PA
LiquiPro™ EZ
Patented PFA housing
YS Stainless Steel Housing
YP Housing
Etc.
ลูกค้าที่สนใจ สามารถสอบถาม ราคา และ ขอใบเสนอราคา ได้โดยดูที่ Contact us